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Huobi研究院报告发布,详细介绍本体DID等技术将助推Web3落地
*报告全文:https://research.huobi.com/#/ArticleDetails?id=295
Huobi 研究院认为:区块链协议和 Layer1 已经趋于成熟,但在落地过程中遇到阻碍。而 Web3 中间件,包括去中心化身份(DID)、声誉系统、节点服务、数据库、Oracle,将成为连接底层协议与应用层的关键所在,为更广泛的用户群体提供便捷访问 Web3 的方式,解决区块链无法落地等相关问题,成为下一轮生态爆发的“主角”。
报告中详细分析了:本体的 ONT ID 解决方案通过生物面部识别等多种 KYC 技术手段,精准验证了用户的身份,同时还利用零知识证明技术保护个人敏感数据与隐私信息。当通过身份验证后,用户可生成可信的可验证凭证 VC,用于后续身份验证及登录,避免个人信息被多次读取,减少身份验证及登录的门槛。
与此同时,本体基于 ONT ID 还搭建了声誉评分系统 OScore,该系统将会根据用户 ONT ID 中记录的链上及链下数据,生成声誉评分。通过集成声誉评分,dApp 以及去中心化自治组织 DAO 等多种应用将可以通过评分为用户提供不同等级的权益,比如声誉分更高的 DAO 成员可以享受更大的话语权。并且,声誉评分在未来的应用空间将更为广泛。
因此,随之而来的下一轮生态的全面爆发,中间件或将是“主角”。
关于 OWN 基础设施
OWN(Ontology Web3 Network)Infrastructure 是本体为 Web3 应用所提供的一系列通用性区块链基础协议和产品,可提供包括公有链协议、公有链二层(L2)协议、Web3 基础协议(DID/Data/声誉等)和通用型工具(Web3 钱包等)在内的基础性组件。Web3 应用可根据不同场景,选择不同基础组件,便捷集成。让 Web3 应用无需开发基础性功能,快速开发应用。个人用户也可通过使用 OWN 基础性产品,快速接入 Web3 应用。了解更多,可访问本体官方网站:https://ont.io/了解最新资讯,参与精彩活动,欢迎加入本体中文电报群!扫描下方二维码或复制链接即可加入:
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